基于伴随梯度的亚分辨辅助图形添加方法及掩模版

本公开提供一种基于伴随梯度的亚分辨辅助图形添加方法及掩模版，涉及半导体制造技术领域，方法包括：基于超分辨光刻模型对设计版图进行正向仿真，在超分辨光刻模型的光刻胶层获得成像电场分布和成像光强分布；根据成像电场分布和成像光强分布进行伴随仿真，在超分辨光刻模型的掩模层获得伴随电场分布；根据伴随电场分布获得伴随梯度；根据伴随梯度确定设计版图中亚分辨辅助图形的添加位置；在设计版图中的添加位置处添加亚分辨辅助图形，得到含有目标图形和亚分辨辅助图形的掩模版图。