一种基于单曝光点扩展全息图的编码孔径相关全息成像方法

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正文
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一种基于单曝光点扩展全息图的编码孔径相关全息成像方法
申请号:CN202510344793
申请日期:2025-03-21
公开号:CN120178636A
公开日期:2025-06-20
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于单曝光点扩展全息图的编码孔径相关全息成像方法,涉及计算光学成像领域。该方法通过使用相反的线性相位分别调制常规编码相位掩膜和二次相位,得到同时记录物体和物体全息图的强度图像,然后分割强度图像得到物体和物体全息图,最后将二者进行解卷积,得到可以用于重建的点扩展全息图。本发明提出的方法可以通过单次曝光得到点扩展全息图,并且可以显著提升无干涉编码孔径相关全息术的重建质量。
技术关键词
全息图 全息成像方法 编码孔径 图像传感器 物体 相位型空间光调制器 相位掩膜 线性 表达式 强度 光学成像 全息术 光波长 点光源 针孔 代表 算法
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