用于离子注入仿真的方法、电子设备及存储介质

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用于离子注入仿真的方法、电子设备及存储介质
申请号:CN202510457522
申请日期:2025-04-11
公开号:CN119989740B
公开日期:2025-07-18
类型:发明专利
摘要
本公开的实施例涉及用于离子注入仿真的方法、电子设备及存储介质。该方法包括:在仿真半导体器件的暴露表面中确定各个离子的初始位置;确定各个离子中指定的基准离子在注入过程中与半导体器件的材料原子的碰撞产生的第一碰撞数据;基于各个离子中其他离子的周围材料信息与基准离子的周围材料信息的比较确定各个其他离子的第二碰撞数据;以及基于第一碰撞数据和第二碰撞数据确定各个离子在仿真半导体材料中的分布状况。本公开的技术方案能够有效减少模拟离子注入过程中的计算量,显著降低计算时间并提升模拟效率。
技术关键词
离子 基准 轨迹 半导体器件 电子设备 数据复制 镜像对称结构 速度 蒙特卡洛算法 设备执行动作 处理器 可读存储介质 半导体材料 指令 立体 存储器 计算机
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