摘要
本申请公开了一种基于CRT电子管的半导体封装图形化光刻系统。系统包括真空腔体、CRT电子枪模块、精密移动平台和原位光学监测单元。其中,CRT电子枪模块集成多级动态聚焦系统和数字化偏转校正算法,能够实时调节电子束焦点位置并校正几何畸变,确保高精度光刻。系统还配备电荷中和单元,适用于非导电基板的光刻需求。通过改进型CRT电子管技术,结合多级动态聚焦系统和数字化偏转校正算法,本发明实现了高精度图形化光刻。
技术关键词
CRT电子枪
动态聚焦系统
半导体封装
光刻系统
电子束
精密移动平台
校正算法
真空腔体
监测单元
多层封装结构
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