一种优化光刻胶稳定性的制备方法、系统及光刻胶

本发明公开了一种优化光刻胶稳定性的制备方法、系统及光刻胶，涉及光刻胶技术领域，所述方法包括：以目标产线的身份特征为约束，采集光刻胶制备日志，日志包含原料配比、反应条件及稳定性指标；基于日志构建稳定性评估模型，模型由对应多个制备环节的级联弱学习器组成；结合评估模型与全局优化算法，迭代搜索制备参数，将模型预测结果作为目标函数输出，制备参数为输入；输出满足稳定性阈值的参数作为标准制备参数，并据此执行光刻胶制备。进而达成提高优化效率、降低优化成本并改善优化精度的技术效果。