一种原子层沉积反应腔室的气体压力控制系统、方法

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一种原子层沉积反应腔室的气体压力控制系统、方法
申请号:CN202510541674
申请日期:2025-04-28
公开号:CN120060835A
公开日期:2025-05-30
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种原子层沉积反应腔室的气体压力控制系统、方法,应用于一般控制或调节系统技术领域,将原子层沉积反应腔室内的温度变化、气体流量变化、真空规实际采集到的气体压力测量值、预置工艺程序设置的气体压力期望值等因素均纳入整个气体压力控制的影响因素范围,通过预置在可编程逻辑控制器内的扩张状态观测器,由该扩张状态观测器基于输入的各项影响因素,确定出在这些影响因素的影响下,对应的气体压力调整量,然后根据该气体压力调整量对反应腔室的干泵的蝶阀的开启角度进行控制,可减少各类干扰项对气体压力调整精度的影响,以实现更为精准的气体压力控制。
技术关键词
扩张状态观测器 气体压力控制系统 原子层沉积 可编程逻辑控制器 蝶阀控制器 真空规 流量控制器 温度传感器 气体压力控制方法 跟踪微分器 干泵 滤波器 非线性 阀门 数学模型 超参数 速度因子
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