摘要
本发明公开了一种基于AI的KrF、ArF光刻胶配方推荐系统及方法,涉及光刻胶配方推荐技术领域,包括采用电子束曝光与深紫外光刻方法,对光刻胶配方参数进行数据采集,得到原始实验数据集;对原始实验数据集进行预处理,得到结构化数据集;采用数据库构建方法,将结构化数据集存储至关系型数据库,建立索引并划分训练集与验证集,得到历史数据库;基于历史数据库和卷积神经网络构建预测模型,并输入历史数据库中的配方参数至预测模型中,输出分辨率与LWR的预测值;基于分辨率与LWR的预测值,采用NSGA‑II多目标优化方法,在显影时间和曝光能量的约束条件下进行优化,得到帕累托最优解集;采用物理气相沉积设备PVD,对帕累托最优解集中的推荐配方进行性能测试。
技术关键词
ArF光刻胶
物理气相沉积设备
推荐方法
紫外光刻方法
数据库构建方法
线宽粗糙度
分辨率
构建预测模型
关系型数据库
电子束
光敏剂
推荐系统
卷积神经网络技术
数据库管理平台
参数
Softmax函数
控制涂布厚度
数据采集模块
系统为您推荐了相关专利信息
推荐话术
关键词特征
客户
话术推荐方法
计算机可读指令