突触薄膜晶体管以及制备方法

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突触薄膜晶体管以及制备方法
申请号:CN202510559648
申请日期:2025-04-29
公开号:CN120417624A
公开日期:2025-08-01
类型:发明专利
摘要
本申请涉及一种突触薄膜晶体管以及制备方法。本申请提供的突触薄膜晶体管为堆叠结构,自下而上依次包括:栅极、导电基底、介电层、N型半导体薄膜层、第一电极、第二电极以及P型半导体薄膜层,第一电极和第二电极间隔设置于N型半导体薄膜层的上面,P型半导体薄膜层覆盖于N型半导体薄膜层、第一电极和第二电极之上,N型半导体薄膜层和P型半导体薄膜层的能级匹配。本申请通过堆叠能级匹配的N型半导体薄膜层和P型半导体薄膜层,以使突触薄膜晶体管具备双极性功能,从而简化了电路设计,提高了仿生神经网络硬件的集成度。
技术关键词
半导体薄膜层 P型半导体薄膜 薄膜晶体管 半导体材料 电极 介电层 神经网络硬件 堆叠结构 金属氧化物 导电 钙钛矿 磁控溅射法 栅极 二氧化铪 基底 氧化铟 氧化镧 氧化锡 氧化铬
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