大面积激光退火的均匀性控制方法及装置

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大面积激光退火的均匀性控制方法及装置
申请号:CN202510562920
申请日期:2025-04-30
公开号:CN120127004B
公开日期:2025-07-04
类型:发明专利
摘要
本发明涉及自动控制技术领域,公开了一种大面积激光退火的均匀性控制方法及装置,所述方法包括:获取基板三维高度分布图,用自适应分割算法划分子区域,得到高度均值与边界坐标。依据高度均值计算焦距调整量,生成焦点参数表。经激光测试比对,动态调焦至焦点偏移小于阈值,获修正焦点数据。提取能量过渡特征,以最小能量梯度约束生成扫描路径。按路径控制激光束,采集能量分布信号,检测初始退火深度,调整未达一致性的子区域激光参数,平滑边缘区域退火特征,生成满足均匀公差的控制指令。本方法通过测量基板全区域高度分布,对基板划分不同的子区域并平滑区域之间的能量过渡,实现激光退火的均匀控制。
技术关键词
均匀性控制方法 路径优化算法 分割算法 生成焦点 调焦方法 激光镜头 位置公差 激光束 轨迹 基板 可读存储介质 滤波算法 坐标 特征提取方法 数据 生成控制指令 平滑边缘
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