适配于光刻机双工件台的激光尺测距采集分析系统

本发明属于光刻机运行管控技术领域，具体是适配于光刻机双工件台的激光尺测距采集分析系统，包括双频激光干涉仪阵列模块、数据采集预处理模块、多源误差解耦分析模块、同步控制反馈模块和运行监管终端；本发明通过双频激光干涉仪阵列模块形成对双工件台在六自由度方向的全面测量，数据采集预处理模块进行数据采集和预处理，多源误差解耦分析模块输出解耦后的净误差，同步控制反馈模块根据净误差生成补偿信号并闭环控制压电陶瓷驱动器调整工件台位置，环境自适应补偿模块修正激光波长漂移引起的测距误差，实现双工件台位移数据的实时采集、解耦分析及闭环反馈，显著提升光刻机动态对准精度并降低生产管控难度，自动化和智能化水平高。