一种半导体芯片低腐蚀清洗剂、其制备方法与应用

本发明提供一种半导体芯片低腐蚀清洗剂、其制备方法与应用，所述半导体芯片低腐蚀清洗剂包括重量配比如下的各组分：复合功能剂0.001‑0.05份；pH调节剂0.1‑5份；无机酸0.01‑1份；氟化物0.1‑2份；有机溶剂60‑90份；超纯水20‑50份；所述复合功能剂包括有机硼酸类化合物和叠氮羧酸类化合物。本发明还公开了半导体芯片低腐蚀清洗剂的制备方法，及其在半导体芯片清洗领域的应用。本发明半导体芯片低腐蚀清洗剂具有优异的清洗效率，能有效去除蚀刻后的金属有机聚合物，同时降低对半导体芯片的腐蚀。