关于角度复用的片上集成超构表面的设计方法及其应用

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关于角度复用的片上集成超构表面的设计方法及其应用
申请号:CN202510634176
申请日期:2025-05-16
公开号:CN120335157A
公开日期:2025-07-18
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种关于角度复用的片上集成超构表面的设计方法及其应用,通过探索和利用导波驱动的迂回相位操纵的方向依赖性,突破了传统的正交x和y方向的复用;通过优化引入其他角度的迂回相位响应,对于所有的预先设计好的光束入射角度,结合菲涅尔区多层z平面的特性,不同的图像能在不同的z平面独立编码,利用由相反的片上照明驱动的光学响应的共轭关系来演示片上全空间3D全息,使得能够在全空间中观察多个全息图像。本发明通过计算优化引入多个角度,大大提高了光学信息储存密度,并且这种角度复用全息术表现出的全息质量具有低背景噪声和串扰,这表明本发明在数据储存和3D显示等领域中有着广阔的应用前景。
技术关键词
超构表面 纳米结构 集成超表面 波导 全息图像 低背景噪声 光束入射角 梯度下降算法 周期 显微镜 全息术 基底 二氧化硅 氮化硅 波长 坐标系 物镜 柱状
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