一种基于镍酸钐/二硫化钼的光电忆阻器及其制备方法与应用

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一种基于镍酸钐/二硫化钼的光电忆阻器及其制备方法与应用
申请号:CN202510634542
申请日期:2025-05-16
公开号:CN120379526A
公开日期:2025-07-25
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种基于镍酸钐/二硫化钼的光电忆阻器及其制备方法与应用。该光电忆阻器集成了光电效应和忆阻效应,包括由下至上依次设置的底电极衬底、阻变功能层和顶电极层;其中,阻变功能层是由二硫化钼薄膜与镍酸钐薄膜组成,该阻变功能层为两者形成的异质结结构。该器件激励信号包括直流电压信号和近紫外波段的光信号,对其施加紫外波段的光照后,会在不同光强度或不同照射时间下产生不同的光电流响应,从而实现对紫外波段光的有效感知。并且改变对该光电忆阻器输入的直流电压信号时,器件具备高阻态和低阻态两种不同的电学状态;当撤出电压信号时,器件保持原来电学状态不变,具有明显的非易失性特征。
技术关键词
二硫化钼薄膜 忆阻器 脉冲激光沉积技术 热蒸发技术 电极 钼酸钠 异质结结构 铌掺杂钛酸锶 衬底 乙酰胺 阻变功能层 金属掩模版 去离子水 人工神经网络 氧气 反应釜 光电流
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