远场成像系统、超表面光栅及成像终端

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远场成像系统、超表面光栅及成像终端
申请号:CN202510645812
申请日期:2025-05-20
公开号:CN120161615B
公开日期:2025-08-19
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种远场成像系统、超表面光栅及成像终端,涉及图像生成技术领域;该系统多模块协同实现动态环境补偿与成像质量优化:实时读取环境温度,依据预存映射关系修正超表面光栅折射率,构建并离散目标波前函数获得初始相位分布矩阵;结合用户视线划分聚焦区,以电压梯度补偿调控相位分布矩阵;基于此划分缓冲与背景区域,配置多区域采样率生成掩码,提升关键区域采集效率;实时监测远场信息变化,选择插值或全变分策略更新图像;借助图像清晰度反馈,叠加二次相位修正项优化相位分布矩阵;本发明解决传统远场成像在环境适应、动态聚焦、数据采集及成像质量方面的难题,适用于增强现实眼镜等。
技术关键词
超表面 矩阵 图像 光栅 指数 光学调控系统 成像终端 采样率 场景 数据采集组件 电源管理系统 优化采样频率 动态 重构算法 压缩感知采样 光信号传感器 波长 连续相位调制
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