一种抗过电压抗电磁干扰SiC MOSFET场限环与微流道互联结构

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一种抗过电压抗电磁干扰SiC MOSFET场限环与微流道互联结构
申请号:CN202510650449
申请日期:2025-05-20
公开号:CN120166757B
公开日期:2025-07-18
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种抗过电压抗电磁干扰SiC MOSFET场限环与微流道互联结构,涉及功率半导体器件封装领域,包括由上至下依次封装的上覆铜陶瓷基板、缓冲层、SiC MOSFET芯片、下基板纳米银焊料层及下覆铜陶瓷基板;其中,SiC MOSFET芯片包括微流道芯片入口、微流道芯片出口、芯片内沟槽式场限环微流道、栅极金属、源极金属及结终端。本发明有效提升SiC MOSFET在过电压工况下的稳定性与可靠性,降低在高工作频率下的电磁干扰,使其能更好地适应各种电力电子应用场景;通过沟槽式场限环与氮化硅陶瓷基板微流道耦合封装结构,可调控在遭受雷击、操作过电压等过电压冲击时的散热效率。
技术关键词
微流道芯片 纳米银焊料 抗电磁干扰 过电压 沟槽 终端 缓冲层 氮化硅陶瓷基板 耦合封装结构 入口 功率半导体器件 微流道结构 栅极多晶硅 SiC衬底
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