一种铁电晶体管、FeFET存储器阵列及芯片

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一种铁电晶体管、FeFET存储器阵列及芯片
申请号:CN202511065516
申请日期:2025-07-31
公开号:CN120769536A
公开日期:2025-10-10
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种铁电晶体管、FeFET存储器阵列及芯片。铁电晶体管,包括:自下而上依次堆叠的半导体沟道、中间介电层、反铁电层、铁电层和栅极层;或者,自下而上依次堆叠的半导体沟道、中间介电层、反铁电层、阻挡层、铁电层和栅极层;或者,自下而上依次堆叠的半导体沟道、中间介电层、铁电层、反铁电层、阻挡层和栅极层;阻挡层为、、、或ONO;反铁电层为或,x为0.07至0.15。铁电层在硅晶圆厂工艺中常用且无污染,在掺杂浓度、厚度、温度和应力变化方面有稳定性;改善NVM在耐久性周期和数据保持方面的特性;能防止干扰,避免读写的延迟。
技术关键词
铁电晶体管 位线 存储器阵列 氧化剂 阻挡层 半导体 叠层 高K介电层 栅极图案化 浅沟槽隔离 金属栅极 正向电压 栅堆叠 金属电极 芯片 中间层
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