摘要
本申请提供了一种铁电晶体管、FeFET存储器阵列及芯片。铁电晶体管,包括:自下而上依次堆叠的半导体沟道、中间介电层、反铁电层、铁电层和栅极层;或者,自下而上依次堆叠的半导体沟道、中间介电层、反铁电层、阻挡层、铁电层和栅极层;或者,自下而上依次堆叠的半导体沟道、中间介电层、铁电层、反铁电层、阻挡层和栅极层;阻挡层为、、、或ONO;反铁电层为或,x为0.07至0.15。铁电层在硅晶圆厂工艺中常用且无污染,在掺杂浓度、厚度、温度和应力变化方面有稳定性;改善NVM在耐久性周期和数据保持方面的特性;能防止干扰,避免读写的延迟。
技术关键词
铁电晶体管
位线
存储器阵列
氧化剂
阻挡层
半导体
叠层
高K介电层
栅极图案化
浅沟槽隔离
金属栅极
正向电压
栅堆叠
金属电极
芯片
中间层
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