一种极端光照环境下的三维成像方法及系统

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一种极端光照环境下的三维成像方法及系统
申请号:CN202510654052
申请日期:2025-05-21
公开号:CN120543751A
公开日期:2025-08-26
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种极端光照环境下的三维成像方法及系统,包括EvHGen模型,EvHGen模型包括重要性采样与动态嵌入模块、时空结构估计器和层级式注意力生成器。本发明解决了当前在极端光照场景下进行3D重建时的局限和不可泛化的问题。能够在过亮和过暗场景下依然能够有效地生成高斯基元并重建场景,而且能泛化到未经训练的场景,在基准数据集的综合实验表明,EvHGen取得了最佳性能,而且EvHGen是首个能够实时从陌生场景事件流中实时(Real‑Time,>30FPS)进行三维成像的方法。在性能与效率方面都达到了目前最佳水平。
技术关键词
三维成像系统 三维成像方法 状态空间模型 多分辨率 基元 光照 方差特征 元素 深度图 融合特征 网格 注意力 编码器 模块 重建场景 约束特征 数据处理方法 序列 动态
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