一种基于XPS和电化学阻抗的取向硅钢氧化层无损测定方法

本发明属于电化学技术领域，尤其涉及一种基于XPS和电化学阻抗的取向硅钢氧化层无损测定方法，具体步骤：S1：XPS测试；S2：氧化层结构电化学阻抗测试：将样品转移至电化学工作站的三电极电解槽，样品嵌入槽位后，电解槽从上方入水口自动注入电解液，参数初始化；电解液覆盖三电极后立即启动电化学阻抗谱测试，通过等效电路模型来拟合测试数据；S3：XPS与电化学阻抗的动态数据关联：将步骤S1获取的多层级结构成分特征由外至内在腐蚀环境下的电化学行为通过等效电路参数表征；采用非线性回归模型，将XPS数据映射至各层氧化膜电阻值。该方法在对样品无损伤的情况下实现对取向硅钢氧化层数据的快速、准确测定，实时监测氧化层在不同条件下演变过程。