一种沟槽肖特基二极管元胞结构

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一种沟槽肖特基二极管元胞结构
申请号:CN202510680993
申请日期:2025-05-26
公开号:CN120568775A
公开日期:2025-08-29
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体器件技术领域,具体为一种沟槽肖特基二极管元胞结构,在衬底上生长外延层,在外延层中向下延伸设置有沟槽,沟槽底部和侧壁与外延层设置第一肖特基势垒区,沟槽内部设置导电物质,外延层上表面、有源区内设有第二肖特基势垒区,能够实现超低的结势垒压降,制作出的二极管芯片具有正向压降低,开关速度快等优点。
技术关键词
沟槽肖特基二极管 元胞结构 肖特基势垒 导电物质 衬底上生长外延层 半导体器件技术 阴极金属层 二极管芯片 掺杂半导体 复合结构 多晶硅 多边形 阳极 开关 速度
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