金属化合物、抗反射金属硬掩模组合物及制备方法与应用

本发明提供一种金属化合物、抗反射金属硬掩模组合物及制备方法与应用，所述金属化合物以含有C＝C双键的C2～C12亚烷基或支链亚烷基为发色团。所述抗反射金属硬掩模组合物包括重量配比如下的各组分：所述金属化合物5‑40份；硅氧烷化合物0.1‑1份；有机溶剂60‑95份。本发明金属化合物含有丰富的发色基团，含有所述金属化合物的抗反射金属硬掩模组合物具有优异的光学性能和高效的蚀刻选择性，在半导体芯片制造中的图形化领域具有良好的应用前景和大规模推广潜力。