一种无机纳米高分子水性膜及制备方法

AITNT
正文
推荐专利
一种无机纳米高分子水性膜及制备方法
申请号:CN202510718985
申请日期:2025-05-30
公开号:CN120718481A
公开日期:2025-09-30
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种无机纳米高分子水性膜及制备方法,涉及纳米材料领域,包括特定质量百分比的气相二氧化硅、氮化硅、流平剂、无机颜填料和功能辅助剂,制备方法涵盖原料预处理、非对称梯度投料、多模态分散研磨、梯度氮气置换及性能验证与分装等步骤,通过等离子活化、低温煅烧优化原料,非对称梯度投料促进组分均匀混合,多模态分散研磨实现纳米级粒径均匀分散,梯度氮气置换有效控制气体环境,提高水性膜的耐氧化性和稳定性。本发明与现有技术相比的优点在于:具有优异的性能稳定性,显著提升的性能指标及良好的耐氧化性和稳定性;耐高温耐低温、耐强酸强碱、耐磨抗压、静电消散、防磁杀菌、防火阻燃、全波段红外自适应环境隐身。
技术关键词
无机纳米 无机颜填料 气相二氧化硅 水性 氮化硅 等离子体处理器 原料预处理 多模态 刮板细度计 氮气 流平剂 纳米级 投料 耐强酸 硅烷偶联剂 微正压 基料 包装桶 纳米材料
系统为您推荐了相关专利信息
1
一种热式流量传感器
热电堆结构 热式流量传感器 热电偶 测温元件 端连接结构
2
一种热交换强度高的带翅片的缠绕管及其使用方法
智能控制系统 故障诊断算法 故障诊断模块 流量传感器 热交换装置
3
一种高鲁棒性触发型可控硅静电防护器件及其制作方法
肖特基二极管 鲁棒性 三极管 P型衬底 保护环
4
一种基于全内反射数字全息术的近场层析显微成像方法
层析显微成像方法 数字全息术 样品折射率 显微三维成像技术 基底
5
陶瓷封装基板、半导体芯片及陶瓷封装基板的制作方法
陶瓷封装基板 电镀铜 半导体芯片 倒装芯片 散热盖
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号