硅光版图优化方法、装置、电子设备及存储介质

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硅光版图优化方法、装置、电子设备及存储介质
申请号:CN202510739622
申请日期:2025-06-04
公开号:CN120315175A
公开日期:2025-07-15
类型:发明专利
摘要
本公开提供了一种硅光版图优化方法、装置、电子设备及存储介质。其中,该方法包括:确定待处理硅光版图中是否存在正交波导;若待处理硅光版图中存在正交波导,则基于正交波导的正交区域,从预设模板库中获取正交区域对应的隔离结构;将隔离结构与正交波导进行配准衔接,并基于配准衔接后的正交波导得到优化后的硅光版图。本公开通过自动检测硅光版图中的正交波导,智能匹配预设隔离结构并实现无缝衔接,无需重新设计波导走线,高效解决信号串扰问题,显著提升硅光版图设计效率与芯片性能。
技术关键词
隔离结构 波导 版图优化方法 坐标 电子设备 计算机 模板 参数 优化装置 处理器通信 指令 端口 顶点 可读存储介质 存储器 尺寸 芯片 信号
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