摘要
本发明公开了一种低应力封装方法及结构,包括以下步骤:在玻璃上制作聚酰亚胺折射膜层;在聚酰亚胺折射膜层上形成围堰结构;贴装芯片;在芯片上制作通孔结构;在芯片上制作钝化层和绝缘层,在绝缘层表面设置垫片;制作RDL线路层;在RDL线路层上涂布阻焊层;植球、切割,完成封装。本发明采用原子层沉积技术形成的膜层具有高平整性、高均匀性、高致密度,可有效提高到达芯片感光区光线数量,增强芯片将光信号转换为电信号的能力,解决光学树脂玻璃的增透需求,可有效改善传统的化学沉积技术导致的孔底Oxide断裂等薄膜机械性能应力产生的问题,在绝缘层表面粘结垫片,可有效分散界面应力,降低钝化层crack问题。
技术关键词
低应力封装方法
制作通孔结构
围堰结构
制作聚酰亚胺
原子层沉积技术
原子层沉积工艺
芯片
纤维素纳米晶
低应力封装结构
聚酰亚胺聚合物
纳米复合颗粒
线路
玻璃
UV固化胶
银纳米颗粒
复合垫片
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