半导体激光清洗工艺中光强动态均衡控制方法

本发明涉及半导体激光清洗工艺的技术领域，尤其是涉及一种半导体激光清洗工艺中光强动态均衡控制方法，其包括通过光强分布监测装置实时获取数据，动态调节模块生成指令，可调光学组件调整光束，以及反馈机制优化策略。还包括装夹准备、初始校准、动态调节、过程监控及质量检测等步骤。本申请能够实现光强分布的均匀性控制，避免清洗不均问题，提升清洗效率与质量，同时增强设备稳定性和适应性，为现代工业提供高效智能的激光清洗解决方案。