基于机械臂动态性能约束的光学抛光驻留时间优化方法

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基于机械臂动态性能约束的光学抛光驻留时间优化方法
申请号:CN202510800232
申请日期:2025-06-16
公开号:CN120839584A
公开日期:2025-10-28
类型:发明专利
摘要
基于机械臂动态性能约束的光学抛光驻留时间优化方法,属于光学抛光领域。本发明实现方法为:测量待加工工件表面的去除量分布,根据加工工艺,测量工具去除函数,获得工具影响系数矩阵以及根据工具尺寸设计抛光轨迹;对齐机械臂末端执行器基准系和工件表面基准系,将工件表面基准系上的抛光轨迹转换为机械臂末端执行器基准系下的末端姿态和轨迹规划,通过逆解得到每个轨迹点的各关节角度,计算相邻点间的关节角度变化;根据关节角度变化矩阵通过逐关节分析速度与加速度限制,确定每段加工轨迹的驻留时间上下限。结合表面去除量分布、工具影响系数矩阵以及驻留时间上下限构建带约束下的驻留时间求解模型;求解驻留时间并将其转化为轨迹点之间的进给速度,实现加工。
技术关键词
机械臂末端执行器 轨迹 关节 时间优化方法 驻留时间分布 基准 矩阵 机械臂逆运动学 工件 代表 动态 抛光工具 加速度 分段 关系
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