基于喷墨打印路径优化的微结构图形生成方法

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基于喷墨打印路径优化的微结构图形生成方法
申请号:CN202510800577
申请日期:2025-06-16
公开号:CN120631281A
公开日期:2025-09-12
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于喷墨打印路径优化的微结构图形生成方法,包括如下步骤:S1、获取目标微结构图形的设计数据,生成路径描述文件;S2、提取喷墨路径优化的关键参数;S3、构建喷墨路径优化模型,并设定优化目标;S4、采用Floyd‑Warshall算法生成全局喷墨路径;S5、采用改进的TD3强化学习路径优化方法生成局部喷墨路径;S6、将全局喷墨路径和局部喷墨路径进行加权优化;S7、计算喷墨执行参数,并生成喷墨打印控制指令;S8、执行喷墨打印控制指令,完成微结构图形的打印;S9、调整喷墨路径优化模型的参数,更新喷墨路径。本发明结合Floyd‑Warshall算法与改进的TD3强化学习优化喷墨路径,动态调整喷墨参数,提升打印精度、均匀性和稳定性。
技术关键词
全局路径优化方法 图形生成方法 打印控制指令 微结构 策略 强化学习模型 控制喷墨打印头 网络 边界轮廓 矢量图形数据 图像边缘检测 参数 矩阵 损失函数优化 训练智能体 频率 特征点识别 坐标
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