摘要
本发明公开了一种面向密集波分复用的2.5维异构硅光波导集成芯片,通过在单一SOI平台上设计光栅耦合器大于220nm和硅波导微环谐振器阵列小于200nm两种厚度的顶层硅波导器件结构,借助光刻、刻蚀等微纳加工工艺实现区域化厚度调控,使同一硅材料层在不同功能区域形成阶梯状高度分布,充分利用这两种硅层独有的特性来提升器件的性能,硅波导微环谐振器阵列支持模块化扩展,通过增加微环数量即可线性提升通道容量,无需重新设计光路架构和复杂流程,仅需两次光刻和两次刻蚀即可完成硅波导制备,为下一代高密度、高可靠性的DWDM光通信系统提供了新的思路,有望在数据中心互联、5G前传网络及长途干线通信中实现应用,器件通道容量与性能潜力将得到更深度释放。
技术关键词
微环谐振器阵列
绝热耦合
集成芯片
密集波分复用
光栅耦合器
异构
5G前传网络
波分复用功能
平面波导结构
SOI平台
顶层硅厚度
光通信系统
器件结构
输入区
传输光
数据中心
光刻
系统为您推荐了相关专利信息
智能电磁锁
电磁锁装置
控制主板
活动铁芯
供电装置
光子集成芯片
交换模块
数字信号处理单元
驱动单元
高速信号完整性
模式转换器
波导
光栅耦合器
六方氮化硼异质结
二氧化硅衬底