一种高压发光芯片及其制备方法

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一种高压发光芯片及其制备方法
申请号:CN202510844947
申请日期:2025-06-23
公开号:CN120730900A
公开日期:2025-09-30
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种高压发光芯片及其制备方法,高压发光芯片包括:缓冲层,缓冲层的材料为未掺杂或低掺杂的半导体材料;绝缘支撑层,位于缓冲层的一侧;绝缘支撑层的材料为掺杂有阻化杂质的半导体材料;绝缘支撑层的电阻率大于缓冲层的电阻率;至少两个发光单元,位于绝缘支撑层远离缓冲层的一侧,且相邻的两个发光单元之间设置有隔离槽;隔离槽用于隔离相邻的两个发光单元;电极连接结构,电极连接结构用于串联相邻的两个发光单元。本发明提供的技术方案,改善了高压发光芯片从隔离槽处断裂的问题,提高了结构的稳定性。
技术关键词
电极连接结构 发光单元 绝缘支撑 发光芯片 半导体层 半导体材料 布拉格反射层 缓冲层 高压 发光模组 发光层 平坦化层 衬底 台面 绝缘材料
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