摘要
本发明涉及一种金属抗蚀清洗剂、制备方法与应用,其中金属抗蚀清洗剂,按照重量份计算包括如下组分:复合功能剂0.001‑0.06份;pH调节剂0.1‑3份;无机酸0.01‑1份;有机溶剂50‑80份;超纯水20‑50份。本发明采用噻吩基羧酸酯衍生物和烷醇类衍生物的组合,噻吩基羧酸酯衍生物凭借酯基的强螯合能力,靶向清除金属离子(如Cu²+、Fe³+),并通过π‑π作用剥离有机污染物;烷醇类衍生物则利用长链疏水端包裹非极性残胶,亲水端增强溶液润湿性,实现纳米级结构的全覆盖清洗。
技术关键词
清洗剂
噻吩衍生物
苄基三甲基氢氧化铵
羧酸酯
清洗半导体芯片
噻吩甲酸
噻吩基
醇衍生物
超纯水
半导体芯片表面
调节剂
四丁基氢氧化铵
四丙基氢氧化铵
甲酸甲酯
四乙基氢氧化铵
醇类
混合液
纳米级结构
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