摘要
本发明公开了一种倒装高压LED芯片及其制作方法。该芯片包括衬底、键合介质层和外延结构,外延结构依次包括N型半导体层、多量子阱层和P型半导体层,所述P型半导体层表面设有透明导电层和功能介质层,功能介质层中形成用于连接外部P电极焊盘的通孔和用于连接桥接金属电极的图形化接触区。芯片结构中设置有第一隔离槽和第二隔离槽,以及桥接金属电极和布拉格反射结构。相邻结构段通过桥接金属电极实现电气串联连接,电流由N电极焊盘输入,经多段结构导通,最终由P电极焊盘输出,形成高压发光电路。与现有技术相比,本发明在减小刻蚀深度、提升互联可靠性和出光效率方面具有明显优势,适用于高密度集成的倒装高压LED器件。
技术关键词
倒装高压LED芯片
金属电极
布拉格反射结构
半导体层
外延结构
芯片出光效率
刻蚀深度
N电极焊盘
多量子阱层
ITO透明导电层
介质
后续金属
蓝宝石衬底
接触区
刻蚀工艺
GaAs衬底
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