一种用于测量系统基准尺标定的视觉校准尺和方法

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一种用于测量系统基准尺标定的视觉校准尺和方法
申请号:CN202510897304
申请日期:2025-07-01
公开号:CN120609320A
公开日期:2025-09-09
类型:发明专利
摘要
本申请涉及视觉校准领域,公开了一种用于测量系统基准尺标定的视觉校准尺和方法。本申请中,通过二维码自动解析和姿态验证机制,避免了手工误操作,同时能精确识别校准过程中可能出现的图像畸变。采用的二维码与实际边长关联设计及通用算法,使得校准尺适配性强,可轻松集成到各种机器视觉或工业相机平台机型中。校准过程无需人工干预,能快速完成不同倍率下的校准切换,显著提升标定效率,使用光掩膜工艺,校准尺可以做到纳米级别精度,可以适合芯片行业自动化校准,通过光掩膜工艺制作的校准尺可达到纳米级精度,进一步扩展了应用范围。精确识别校准过程中出现的图像畸变;通用性强,同时轻松适配各种平台机型;可以迅速切换不同倍率校准。
技术关键词
校准尺 基准尺 视觉系统 校准参考值 视野 成像 索引表 光学系统 光掩膜 图像 解析二维码 定位基准点 通用算法 校准需求 坐标 三角形 验证机制
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