一种面向晶圆级微结构尺寸测量的高精高效光谱干涉测量方法及系统

本发明公开了一种面向晶圆级微结构尺寸测量的高精高效光谱干涉测量方法及系统，所述方法包括：构建插值函数对初始采集的两帧光谱干涉图进行重构；归一化重构后的两帧光谱干涉图；基于光强等效策略选择光谱干涉图中用于计算光谱相移和相位的有效位置；计算光谱干涉图的相移和相位；计算微结构轮廓的高度尺寸值。本发明有效地综合了随机相移算法高精度、相移无约束以及大测量范围的优势，并可以借助低计算成本稳定完成微结构轮廓高度尺寸的测量任务。