基于传感器调节的磁流变抛光设备与方法

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基于传感器调节的磁流变抛光设备与方法
申请号:CN202510900308
申请日期:2025-07-01
公开号:CN120395564B
公开日期:2025-09-02
类型:发明专利
摘要
本发明涉及光学加工技术领域,尤其涉及一种基于传感器调节的磁流变抛光设备与方法,设备包括激光跟踪仪、控制单元、机器人、磁流变加工模块和传感器模块;磁流变加工模块设置在机器人的自由端,机器人带动磁流变加工模块对待加工光学元件进行加工;传感器模块设置在磁流变加工模块上;激光跟踪仪配合靶球测量传感器模块与磁流变加工模块中抛光轮的工作点的空间坐标;方法中以激光跟踪仪和传感器模块配合测量加工过程中机器人的位姿、磁流变加工模块的位置以及加工时的去除函数的实时变化,对磁流变加工模块中供给系统、喷嘴和作动器进行实时调控,进而实现待加工光学元件的去除函数的实时恒定控制。
技术关键词
传感器模块 坐标 抛光轮 激光跟踪仪 抛光方法 光学元件 关系 轨迹 理论 直线 磁流变抛光设备 误差 机器人 调节电机 抛光电机 液体泵
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