基于半导体衬底的电路-热沉单片集成基板及其制备方法

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基于半导体衬底的电路-热沉单片集成基板及其制备方法
申请号:CN202510940002
申请日期:2025-07-09
公开号:CN120453247A
公开日期:2025-08-08
类型:发明专利
摘要
本发明涉及功率器件封装与散热技术,旨在提供一种基于半导体衬底的电路‑热沉单片集成基板及其制备方法。该集成基板具有多层结构,包括半导体衬底、绝缘外延层、缓冲金属层和有源电路层;在半导体衬底中设有微流道结构,有源电路层包括功率芯片和引线框架层,绝缘外延层、缓冲金属层和引线框架层均以外延生长方式;缓冲金属层、有源电路层和微流道结构均分为多组且互不相连,各组微流道结构的排布区域分别对应着引线框架层所处区域。本发明采用在晶圆片上生长工艺,将电路与热沉在半导体衬底上同步加工,能够消除各层结构间的孔隙,从而在结构上实现更加紧密的一体化集成;相比传统液冷结构,省去了热界面材料,使封装保持极低的传导热阻。
技术关键词
引线框架 半导体衬底 微流道结构 外延生长工艺 热沉 单片 缓冲 功率芯片 电路 绝缘 基板 金属陶瓷复合材料 原子层沉积 氢化物气相外延 功率器件封装 刻蚀工艺 薄膜
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