OPC模型的构建方法、掩膜版图案的获取方法及相关设备

本发明属于半导体技术领域，提供OPC模型的构建方法、掩膜版图案的获取方法及相关设备。本发明OPC模型的构建方法，根据成像对比度对晶圆图形进行了筛选分类，筛选出成像对比度不满足预设要求的晶圆图形，利用这些晶圆图形的CDSEM图像与测试版图进行叠对，精准且快速地得到与测试版图的对准标记位置一致的晶圆图形的特征尺寸，作为校准特征尺寸，这种方法得到的校准特征尺寸相对于原始特征尺寸更加准确，用于构建OPC模型，可以提高OPC模型的准确性。