一种加速DMD数字光刻成像仿真的方法、装置、设备及介质

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一种加速DMD数字光刻成像仿真的方法、装置、设备及介质
申请号:CN202510974548
申请日期:2025-07-15
公开号:CN120848117A
公开日期:2025-10-28
类型:发明专利
摘要
本申请提供一种加速DMD数字光刻成像仿真的方法、装置、设备及介质,涉及数字光刻技术领域。方法包括:基于数字微镜设计文件得到第一微镜阵列图,所述数字微镜设计文件中包括需要仿真的图案;将所述第一微镜阵列图中的每个微镜周期占用的像素数量由第一值减少至第二值,得到简化后的第二微镜阵列图;基于预先建模得到的DMD数字光刻仿真模型对所述第二微镜阵列图进行仿真。可见,本申请在仿真前对数字微镜设计文件进行了简化,每个微镜周期占用的像素数量减少,仿真时可以节省更多的时间,大大提升了DMD数字光刻成像的仿真效率。
技术关键词
微镜阵列 仿真模型 计算机可读指令 数字光刻技术 像素 周期 格式 成像 处理器 模块 图案 可读存储介质 存储器 电子设备
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