基于双光路红外反射法的抗反射涂层测厚方法及系统

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基于双光路红外反射法的抗反射涂层测厚方法及系统
申请号:CN202510991470
申请日期:2025-07-18
公开号:CN120488975B
公开日期:2025-09-19
类型:发明专利
摘要
本申请涉及涂层厚度测量技术领域,具体涉及基于双光路红外反射法的抗反射涂层测厚方法及系统,该方法包括:获取各时刻下测量光路光束入射到待测样品涂层表面的反射信号与参考光路光束入射到标准样品涂层表面的反射信号;在各时刻下反演得到待测样品涂层的厚度测量值;实时采集裸露基底的反射光谱数据;获取各时刻的光谱特征值与变化度;获取各时刻的下一时刻的预测厚度测量误差,获取各时刻的基底补偿因子,评估是否需要重新反演计算各时刻下的厚度测量值;若需要,构建各时刻的目标函数,优化各时刻反演厚度测量值的菲涅尔模型的参数;反演计算各时刻下待测样品涂层的厚度测量值。本申请旨在提高抗反射涂层厚度测量的稳定性与精度。
技术关键词
反射光谱数据 双光路 测厚方法 测量误差 基底 因子 特征值 涂层测厚系统 光束 主成分分析算法 序列 抗反射涂层 信号处理单元 时序 波长 矩阵 方程
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