一种GaAs变容二极管芯片结构及其制备方法

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一种GaAs变容二极管芯片结构及其制备方法
申请号:CN202511001274
申请日期:2025-07-21
公开号:CN120897465A
公开日期:2025-11-04
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种GaAs变容二极管芯片结构及其制备方法,涉及半导体器件技术领域。该芯片结构包括:GaAs半绝缘衬底、N型欧姆接触台、N型欧姆接触电极、N型肖特基接触台和N型肖特基接触电极;GaAs半绝缘衬底上设置N型欧姆接触台,N型欧姆接触台上设置N型肖特基接触台和N型欧姆接触电极;其中,N型肖特基接触台的纵截面的下边长大于上边长;N型肖特基接触台上设置N型肖特基接触电极;其中,N型欧姆接触电极靠近N型肖特基接触电极的一端将N型肖特基接触电极半包围,N型肖特基接触电极和N型肖特基接触台之间悬空,形成空气桥结构。本发明能够解决制备小电容器件,在增大台面时减小寄生参量。
技术关键词
N型欧姆接触电极 肖特基 变容二极管 芯片结构 欧姆接触层 空气桥结构 光刻 焊盘 电镀种子层 绝缘 衬底层 半导体器件技术 基础结构 保护胶
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