摘要
本公开提供了一种半导体器件及芯片,涉及半导体技术领域,旨在解决半导体器件性能较差的问题;半导体器件包括衬底和多个晶体管;多个晶体管位于衬底的一侧,晶体管包括沟道层、势垒层和栅极;势垒层位于沟道层远离衬底的一侧;栅极位于势垒层远离衬底的一侧;其中,多个晶体管包括第一类晶体管,第一类晶体管还包括至少一层盖帽层,盖帽层位于栅极和势垒层之间;第一类晶体管包括第一晶体管和第二晶体管,第一晶体管中的盖帽层的总厚度,大于第二晶体管中的盖帽层的总厚度;上述半导体器件应用芯片中。
技术关键词
晶体管
盖帽层
半导体器件
衬底
势垒层
栅极
芯片
氮化镓
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