一种低压等离子喷涂设备及其喷涂方法

本发明公开了一种低压等离子喷涂设备及其喷涂方法，包括底板和加工室，底板上设有加工室，加工室内通过隔板分隔成前处理室和低压喷涂室，低压喷涂室内通过机械臂设有等离子喷涂装置，前处理室和低压喷涂室内通过移动组件设有夹紧转动机构，用于带着工件沿着前处理室移动至低压喷涂室内，底板上对称设有导向组件，低压喷涂室位于等离子喷涂装置下设有收集组件，收集组件底端设有喷出机构。本发明通过设有的收集组件配合喷出机构，可方便对喷涂过程中的颗粒进行收集，大颗粒的单独收集方便后续再利用，合适粒径的配合喷出机构喷出，可对工件表面进行除杂，确保表面的洁净度，不影响后续的喷涂加工，保证喷涂的质量。