一种基于沟槽工艺的SiC MOSFET芯片终端结构

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一种基于沟槽工艺的SiC MOSFET芯片终端结构
申请号:CN202511051927
申请日期:2025-07-29
公开号:CN121013379A
公开日期:2025-11-25
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于沟槽工艺的SiC MOSFET芯片终端结构,包括:终端区n型漂移区和多个基本单元;其中,多个基本单元沿终端区n型漂移区的长度方向依次设置于终端区n型漂移区上。本发明解决了传统SiC MOSFET终端面积较大的问题。
技术关键词
沟槽工艺 终端结构 p型埋层 氧化层 多晶硅 芯片 刻蚀工艺 间距 p型杂质
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