摘要
本发明公开了一种基于沟槽工艺的SiC MOSFET芯片终端结构,包括:终端区n型漂移区和多个基本单元;其中,多个基本单元沿终端区n型漂移区的长度方向依次设置于终端区n型漂移区上。本发明解决了传统SiC MOSFET终端面积较大的问题。
技术关键词
沟槽工艺
终端结构
p型埋层
氧化层
多晶硅
芯片
刻蚀工艺
间距
p型杂质
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