用于超薄光学元件的高精度单面抛光装置、方法及系统

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用于超薄光学元件的高精度单面抛光装置、方法及系统
申请号:CN202511069557
申请日期:2025-07-31
公开号:CN120645081A
公开日期:2025-09-16
类型:发明专利
摘要
本发明公开了用于超薄光学元件的高精度单面抛光装置、方法及系统,属于光学元件抛光技术领域,其技术方案要点是包括,根据薄膜传感器采集到的电压数据,得到超薄光学元件的形变量分布数据;根据形变量分布数据和预设的降阶模型,得到预测形变量分布数据,降阶模型根据训练得到;根据预测形变量分布数据,调整控制参数,控制参数包括吸附区负压,本发明通过包括吸附区与硅胶变形层的真空吸附夹盘固定光学元件,并通过设置在硅胶变形层内的正、负传感器准确监测光学元件的形变量,在避免传统上盘方法容易导致光学元件变形和破裂问题的同时避免温漂效应导致的监测误差,最终基于形变量调整控制参数,保证抛光精度。
技术关键词
超薄光学元件 单面抛光方法 薄膜传感器 单面抛光装置 变量 三角剖分算法 降阶模型 数据 夹盘 光学元件抛光技术 缓冲环 单面抛光系统 监测光学元件 硅胶 三角形 上盘方法 成分分析法 补偿值
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