一种缓蚀增强型芯片清洗剂、其制备方法与应用

本发明涉及一种缓蚀增强型芯片清洗剂、其制备方法与应用，其中缓蚀增强型芯片清洗剂，按照重量份计算包括如下组分：吡喃糖苷类缓蚀剂0.001‑0.01份；螯合剂0.1‑0.5份；有机酸0.1‑2份；氟化物0.1‑2份；有机溶剂60‑90份；超纯水20‑50份，所述吡喃糖苷类缓蚀剂为烷基硫代吡喃糖苷。本发明采用烷基硫代吡喃糖苷缓蚀剂，铝表面溶液中的Al³+位点可与硫原子结合，形成配位键，使分子定向吸附于铝表面。硫的强配位能力可与污染物中的金属离子形成配位中间体，降低其与铝基体的结合能，从而促进螯合剂对污染物的溶解，吡喃糖环上的羟基可与铝表面的羟基化层形成氢键网络，增强分子与氧化膜的附着力，从而增强缓蚀作用。