掩模版图的掩模工艺校正方法及芯片

本公开提供一种掩模版图的掩模工艺校正方法及芯片，涉及集成电路制造技术领域，方法包括：对掩模设计版图进行网格化处理，得到第一网格图；获取第一网格图中掩模设计版图的图形边缘对应的第一边缘网格，组成第一图形边缘轮廓线；获取以掩模设计版图为掩模图形制备得到的掩模版中图形的轮廓图；对轮廓图进行与掩模设计版图相同网格尺寸的网格化处理，得到第二网格图；获取第二网格图中掩模版的图形边缘对应的第二边缘网格，组成第二图形边缘轮廓线；基于第一图形边缘轮廓线、第二图形边缘轮廓线和网格尺寸确定掩模工艺补偿量；基于掩模工艺补偿量对掩模设计版图进行校正，得到目标掩模版图。