一种GaN自发光透镜Micro-LED及其制备方法

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一种GaN自发光透镜Micro-LED及其制备方法
申请号:CN202511113872
申请日期:2025-08-11
公开号:CN120603420B
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种GaN自发光透镜Micro‑LED及其制备方法,通过将自发光半导体层的结构设置成有聚光效果的微透镜或类微透镜结构,且自发光半导体层整体被半导体钝化层包覆,半导体钝化层上对应于N型半导体层的位置处开设有钝化层通孔,半导体钝化层的表面沉积有电流扩展层,电流扩展层通过钝化层通孔与N型半导体层接触,具体的,将发光的有源层整体纳入微透镜中,形成材料‑光电‑光学三功能同质集成,在提高光子逃逸概率的同时,彻底消除了异质界面导致的热失配问题。
技术关键词
驱动基板 图形化光刻胶 电流扩展层 电极金属层 透镜结构 有源半导体层 芯片 外延片 正性光刻胶 掩膜 通孔 三功能 层叠 聚光
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