基于OPC的STA时序分析优化方法、装置、介质、程序产品及终端

本申请提供基于OPC的STA时序分析优化方法、装置、介质、程序产品及终端，在提取寄生参数前获取版图数据，执行第一STA时序分析，快速定位关键路径，随后对关键路径实施光学邻近效应修正和拟合，生成高度拟合真实制造状态的版图，通过第二STA时序分析实现对修正路径的全面精细评估，保障时序收敛的精准验证与优化。解决了传统时序验证过于保守且精准度不足，导致设计资源浪费、时序验证失准及芯片时序风险难控的问题。显著提升了时序验证精度与效率，减少非关键区域冗余计算和资源消耗，适用于先进工艺芯片设计，实现制造偏差环境下的高效可靠时序收敛，确保芯片性能和生产良率。