一种XPS谱图分析方法、系统、计算机设备及介质

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推荐专利
一种XPS谱图分析方法、系统、计算机设备及介质
申请号:CN202511168916
申请日期:2025-08-20
公开号:CN121010776A
公开日期:2025-11-25
类型:发明专利
摘要
本发明提供了一种XPS谱图分析方法、系统、计算机设备及介质,属于表面分析领域,包括获取待识别XPS谱图数据;对待识别XPS谱图数据按照空间维度从高到低进行不同尺度的特征提取,得到待识别XPS谱图数据中各个谱峰的物理属性对应的局部区域特征;对局部区域特征进行上采样,得到重构谱图;将局部区域特征和重构谱图融合,得到融合特征图;对融合特征图进行物理属性拟合,将物理属性与化学位移参考范围进行匹配,确定化学状态;根据谱峰的物理属性构建拟合峰,并根据待识别XPS谱图数据的化学状态生成背景曲线。该方法不需要检测人员手动操作拟合即可提取可靠的化学状态信息,提高了能谱分析效率的同时保证了能谱分析结果的可靠性。
技术关键词
深度学习网络模型 分析方法 训练集 融合特征 物理 计算机设备 重构 上采样 多尺度特征 数据获取模块 解码器 曲线 编码器 分析系统 基线 核心 噪声 理论 处理器
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沪ICP备2023015588号