基于分段多项式非线性拟合的掩膜版关键尺寸补偿方法

本发明涉及掩膜版制造，具体涉及基于分段多项式非线性拟合的掩膜版关键尺寸补偿方法，设计不同孔径大小的孔层，并进行光刻形成整版的孔层，计算每种孔径的孔层对应的CD偏差值；预设分界点，将不同孔径划分为多个区间；采用基于误差梯度的动态分界算法对分界点进行动态调整，并确定最终的多个区间；在每个区间内，采用AIC准则确定区间对应拟合多项式的最佳阶数，得到拟合多项式；确定相邻区间之间的重叠带，并根据相邻区间的拟合多项式对重叠带进行线性加权补偿，确保补偿值在相邻区间之间平滑过渡；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的难以对不同孔径大小的孔层的尺寸进行自适应补偿的缺陷。