一种快速计算半导体场效应管工艺波动效应的方法

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一种快速计算半导体场效应管工艺波动效应的方法
申请号:CN202410753550
申请日期:2024-06-12
公开号:CN118607423A
公开日期:2024-09-06
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种快速计算半导体场效应管工艺波动效应的方法,包括TCAD计算半导体场效应管稳态解一次,获得参考电流值及参考转移特性曲线;生成工艺波动随机分布样本;计算电势格林函数和电流格林函数,并通过离散化处理及对工艺波动响应的非线性叠加,计算电极处的电流波动;并将电流波动与参考电流值相加,获得特定工艺波动下的电流值;并通过变化工艺波动随机分布样本及变化栅极电压,获得不同波动情况下半导体场效应管的转移特性曲线族,并由此推导器件电学特性参数的分布。本发明仅需TCAD计算稳态解一次,并且考虑了器件的非线性扰动,降低了快速求解的模型误差,在保证计算效率的同时保障了求解精度。
技术关键词
半导体场效应管 电学特性参数 电流值 拉普拉斯 开态电流 栅极 泊松方程 样本 线边缘粗糙度 稳态 非线性 特性曲线族 仿真模型 FET器件 电极 界面陷阱 半导体工艺
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