一种用于计算光谱成像的光谱调制掩膜、制备方法及应用

本申请提出了一种用于计算光谱成像的光谱调制掩膜、制备方法及应用；光谱调制掩膜制备过程包括，根据光谱透过特性向量选择具有光谱调制作用的材料，并将其分别溶解或分散于光刻胶中形成对应的光谱调制光刻胶；根据光谱调制掩膜的空间排列方式设计并加工掩膜版；以晶圆作为光刻衬底，并多次调整掩膜版的位置进行多次套刻，以将多种光谱调制光刻胶套刻固化在晶圆的不同空间位置，形成对入射光的波长进行调制的光谱调制掩膜。本申请利用光刻胶为载体，将具有光谱调制作用的材料制备成光谱调制掩膜，实现低成本，大规模高光谱成像传感器的集成，解决了传统快照式高光谱成像系统低光通量、低空‑谱分辨率、难以大规模集成的缺点。